Inline Sputtering სისტემა
-
Inline Magnetron Sputtering სისტემა
Inline Magnetron Sputtering სისტემა არის ვაკუუმური თხელი ფირის დეპონირების მოწყობილობა, რომელიც მუშაობს სხვადასხვა მიზნებისთვის.ჩვენი sputtering ხაზის ყველაზე გავრცელებული აპლიკაციები მოიცავს:
ალუმინის სარკის წარმოება
- ITO მინის საფარი
- ანტი ამრეკლი მინა
- დეკორატიული საფარები უჟანგავი ფოლადისა და მინისთვის
ეს საფარის სისტემა შესაფერისია მაღალი კლასის ვაკუუმური საფარის გამოყენებისთვის.იგი აწარმოებს სტაბილურ სამუშაო შესრულებას ვაკუუმური საფარის ფილმების ხარისხის გასაუმჯობესებლად.
-
ITO შუშის მაგნიტრონის დაფარვის ხაზი
ITO Glass Magnetron Sputtering Coating Line იყენებს ვაკუუმ-მაგნეტრონის ჭურჭლის ტექნოლოგიას და გაუწონასწორებელ მაგნეტრონული დაფქვის ტექნოლოგიას მაღალი ხარისხის მცურავი მინის SO2/ITO ფენით დასაფარად.დაფუძნებულია საერთაშორისო მოწინავე კონტროლის სისტემაზე.მთელი წარმოების პროცესი მუშაობს ავტომატურად და მუდმივად.
-
ალუმინის სარკის Inline Magnetron Sputtering ხაზი
ალუმინის სარკის Inline Magnetron Sputtering Line განკუთვნილია შუშის სარკის წარმოების მაღალი სიმძლავრისთვის.უფრო დიდი შუშის დაფარვის მიზნით და მყიფე შუშის პანელზე ზრუნვისთვის, განსაკუთრებით დიდი ზომის ფურცლებისთვის, ჩვენ ჩვეულებრივ ვაკეთებთ ჰორიზონტალურ ხაზს.ეს არის უწყვეტი მაგნიტრონის საფარის ხაზი, წინა და უკანა უხეში სატუმბი კამერით და გარდამავალი კამერის შემდეგ, წვრილი სატუმბი კამერის წინ და შემდეგ, ბუფერული კამერით, ფერადი სატუმბი ოთახით.
სამიზნე დ ნიშანი: ცილინდრული მაგნიტრონის გამჭოლი კათოდები ან/და პლანშეტური კათოდები.
ელექტროენერგიის წყარო: კვების წყარო მაღალი სიმძლავრის DC ან MF მაგნიტრონის დაფრქვევით
წამყვანი სისტემა: როლიკებით, სიხშირის რეგულირება, ინდუქციური ტიპის ოთახის კარის გაღების სისტემა.
ვაკუუმური სისტემა: დიფუზიური ტუმბო (ან ტურბომოლეკულური ტუმბო) + ფესვის ტუმბო + მექანიკური ტუმბო
